其传输速度从10Mbit/s(低速以太网)到100Mbit/s(高速以太网)。IEEE在1998年通过了IEEE802.3z的Gigabits以太网(GbE)规范。10Gigabit的以太网规范IEEE802.3ae获得通过。

IEEE802.3ae规范界说了光纤作为10GbE网络的传输前言，包括单模光纤和多模光纤。规范给出的在850nm波长，多模光纤的传输距离从一般62.5/125mm 梯度多模光纤的28米到激光优化(Laser-Optimized)多模光纤的300米不等。要求到达300米的传输距离，一般的多模光纤是无能为力，有必要优化光纤的制备工艺，准确操控光纤的出产进程，以开发新的激光优化的多模光纤。

本文由10G以太网的要求，介绍了新的激光优化多模光纤的功能特征。以及长飞光纤光缆有限公司凭借PCVD (Plasma-activated Chemical Vapor Deposition)工艺的优势，所开发的契合10G以太网传输规范的激光优化多模光纤―超贝光纤。

1、10G以太网多模光纤

10G以太网运用LD(Laser Diode)作为光源和多模光纤为传输前言。为了在850nm波长窗口在多模光纤上到达300米以上的传输距离，规范TIA/EIA-455-203[3]和TIA/EIA-492AAAC[4]分别对注入条件和光纤的功能进行了界说。其中要求入纤光功率散布契合FOTP-203规范。规范TIA/EIA-492AAAC规定了850nm波长激光优化的50/125mm梯度折射率多模光纤的具体指标。对光纤带宽的要求为：在满注入OFL(Over-Filled Launch)条件下(TIA/EIA-455-204)[5]，850nm的OFL带宽大于等于1500MHz·km，1300nm的OFL带宽大于等于500MHz·km。一起对纤芯的差分模推迟DMD (Differential Mode Delay) 测验(TIA/EIA-455-220)有必要在表1所给出的模板范围内。

多模光纤的满注入OFL(Over-filled Launch)带宽反映的是对光纤在LED光源环境下的带宽功能指标，测验时，多模光纤的所有传导形式均被激起[6]。而激光优化多模光纤的DMD测验有必要遵照TIA/EIA-455-220[7]规范。该规范界说了DMD测验的整个进程，包括光源，定位设备，接纳体系以及测验程序。规范要求注入待测光纤的光斑有必要是单模的，在850nm波长，其模场直径约在5mm，而且对光脉冲的时域脉宽和谱宽也做了详细的规定。总归，单模的，满足短，以及窄谱宽的光脉冲是好的。一起对定位体系的精度，注入脉冲的耦合条件，以及接纳体系的线性和响应也给出了各自的要求。需要专门的DMD测验设备。

根据IEEE802.3ae规范，当光源的功率散布契合TIA/EIA-455-203 规范，一起多模光纤的功能契合TIA/EIA-492AAAC规范时，在850nm波长，确保光纤的有用带宽EBW(Effective Bandwidth)大于2000MHz·km，在10Gigabit的网络体系中到达300米以上的传输距离。

2、超贝光纤

为什么在100Mbps时可以支撑2000米的多模光纤，在1Gbps时只能支撑550米?首要原因正是由于多模光纤的DMD现象。通过测验，咱们发现，多模光纤在传送光脉冲时，光脉冲在传送进程中会发散展宽，当这种发散状况严重到必定程度后，前后脉冲之间会相互叠加，使得接受端根本无法准确分辩每一个光脉冲信号，这种现象咱们称为DMD(Differential Mode Delay)。其首要原因在于：一、纤芯折射率散布的不w.m。一般多模光纤由于预期运用于LED光源的网络，在满注入条件下，脉冲能量首要散布在中间形式群，高阶形式群和低阶形式群的影响相对不显着。但在DMD测验中，在不同的入射位置，这些高阶形式群和低阶形式群的影响将导致光脉冲变形和分裂。二、光纤的中心洼陷。光纤的中心洼陷是指在纤芯中心的折射率显着下降的现象。这种洼陷和光纤的制作进程有关。这种中心洼陷将极大地影响光纤的传输特性，降低光纤的功能。

因而准确操控光纤的折射率散布和消除中心洼陷是10G以太网多模光纤(超贝光纤)研发的首要任务。长飞公司运用PCVD办法出产光纤预制棒。PCVD是制作多模光纤的办法，具有堆积层数多，剖面操控准确的特色，其几千层的堆积进程可以有用的操控堆积层的搀和量以获得与理论要求契合的折射率散布。一起在融缩进程中，通过操控腐蚀量和中心孔的巨细避免中心洼陷的出现。

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